Filmetrics® R50-4PP 四点探针系统和 Filmetrics R50-EC 涡流系统
Filmetrics R50 重磅推出，为 KLA Instruments 测量产品线增添桌上型薄膜电阻和电导率测绘系统。 R50 的功能经过优化升级，可精准测绘金属薄膜的均匀度、表征离子掺杂和注入、测绘薄膜厚度和电阻率，以及以非接触方式测量薄膜厚度。
四点探针（4PP）和涡流（EC）是测量薄膜电阻的两种常用技术。 Filmetrics R50-4PP 和 R50-EC 系统集成了 KLA 领先业界的校准技术，无论采取何种测量手段，准确性都有十足保障。
四点探针（4PP）和涡流（EC）是测量薄膜电阻的两种常用技术。 Filmetrics R50-4PP 和 R50-EC 系统集成了 KLA 领先业界的校准技术，无论采取何种测量手段，准确性都有十足保障。
产品描述
Filmetrics R50 是 KLA 桌上型薄膜电阻和电导率测绘系统的创新之作。 自 1975 年推出首台电阻率测量仪器以来，我们的产品系列不断革新导电层的薄膜电阻和厚度测量技术。
产品功能
- 提供四点探头（4PP）或非接触式涡流（EC）配置
- 60 毫米 Z 轴调节范围，高度可粗调或精调，进样速度可调节
- 4PP 可测量导电和半导体薄膜电阻，涵盖十个数量级的薄膜电阻测量范围
- 用户可指定 使用矩形、线性、极坐标和自定义配置对样品进行测绘
- 高精度 X-Y 载物台，移动行程可达 300 毫米
- 易于使用的软件界面
- 与所有 KLA 薄膜电阻探头适配
型号规格
主要应用
- 金属薄膜和背面薄膜电阻均匀度
- 离子注入工艺优化
- 基板电阻率
- 薄膜电阻
- 薄膜厚度或电阻率
- 薄膜电导率
- 块体电导率
- 数据采集和可视化
适用行业
- 汽车
- 太阳能
- LED
- 半导体晶圆基板
- 玻璃基板
- 电路板和 PCB 图案化功能
- 平板显示器层和图案化功能
- VR 显示器
- 金属箔
- 导电橡胶和弹性体
- 学术研究
适用行业举例
金属薄膜的均匀度
金属薄膜电阻均匀度对于确保设备性能至关重要，大多数金属薄膜都可以使用 4PP（四点探针）和 EC（涡流探针）进行测量。 EC 适合测量较厚的高导电金属薄膜，4PP 则适合测量较薄的金属薄膜（> 10Ω/sq），但两种测试方法的结果具有高度相关性，两者都能得出准确的测量结果。
R50 电阻率映射图着重显示薄膜均匀度、沉积质量和其他工艺差异。 通过此 2 微米铝铜合金薄膜的涡电流映射图，可识别并量化偏离中心的沉积情况。
离子注入表征
4PP 是测量离子注入工艺的标准技术。 对热退火后的离子注入物进行测绘，可识别灯管故障、晶圆/底盘接触不良或注入剂量不均导致的热点和冷点。 离子注入后的硅片需要热退火处理，才能激活掺杂剂离子。
在左侧示例中，三个红色高电阻区表示离子（右侧示例）注入退火期间，三个晶圆支撑造成的热损失最大的位置。 均匀的温度对于退火工艺十分重要，而晶圆边缘和接触位置的热损失可能会对激活均匀性造成严重影响。 请注意，对于光敏样品，通常推荐使用Filmetrics R54系列封闭式薄膜电阻测绘仪。
薄膜厚度/电阻率/方块电阻
测量得出的晶圆数据可以映射为方块电阻、薄膜厚度或电阻率。 只需输入材料的电阻率值，即可计算和显示厚度；而若输入厚度值，则可以计算出电阻率。
数据采集和可视化
RsMapper 是 R50 的用户界面，直观易用。它将数据采集和分析功能整合到一个平台中，可直接在工具上操作，或进行离线分析。 使用各种坐标布局轻松设定数据采集测量点。
RsMapper 平台能以 2D 或 3D 形式呈现测量结果，实现关键薄膜均匀度数据的可视化，例如左侧显示的离子束扫描问题。 软件可在不同测量参数映射图和可旋转三维剖面图之间轻松切换，让用户能自定义工艺参数视图。 无论是测量方块电阻、电阻率还是金属薄膜厚度，RsMapper 都能以令人信服的视觉化方式展示数据。
选配件
CondWafer-4PP
四点探针校准晶圆套装。 陶瓷探针校准基板，4 英寸方形。
适用于 Filmetrics R50 / R54 四点探针系统。
4PP-TypeA
4PP 探头，间距 1 毫米，尖端半径 40 微米，负载100克。 适用于金属测量。
4PP-TypeB
4PP 探头，间距 1 毫米，尖端半径 100 微米，负载100克。 适用于一般用途的离子注入测量。
4PP-TypeC
4PP 探头，间距 1 毫米，尖端半径 200 微米，负载100克。 适用于注入/高阻抗表面测量。
4PP-TypeD
4PP 探头，间距 1 毫米，尖端半径 500 微米，负载100克。 适用于复杂注入/高阻抗表面测量。
4PP-TypeE
4PP 探头，间距 1.6 毫米，尖端半径 40 微米，负载200克。 适用于基板/块体材料测量。
4PP-TypeF
4PP 探头，间距 0.625 毫米，尖端半径 40 微米，负载100克。 适用于金属测量。
4PP-TypeG
4PP 探头，间距 0.6 毫米，尖端半径 100 微米，负载100克。 适用于一般用途的离子注入测量。
4PP-TypeH
4PP 探头，间距 0.6 毫米，尖端半径 200 微米，负载100克。 适用于注入/高阻抗表面测量。
4PP-TypeI
4PP 探头，间距 0.6 毫米，尖端半径 500 微米，负载100克。 适用于复杂注入/高阻抗表面测量。
EC-ProbeA
涡流探头。 直径 1.5 毫米，10 兆赫，电阻率 <1Ohm /sq.
EC-ProbB
涡流探头。 直径 1.5 毫米，5 兆赫，电阻率 <50Ohm /sq.
EC-ProbD
涡流探头。直径 4 毫米，10 兆赫，电阻率 <500Ohm /sq.
相关产品
Filmetrics® R54-200 和 Filmetrics R54-300 薄膜电阻测绘系统
Filmetrics R54 的高级方块电阻率和电导率测绘系统在保留 R50 功能的基础上，增加全遮光外壳和附加性能，为半导体和化合物半导体应用（包括离子注入和外延晶圆）提供支持。
两种 R54 系统最大可容纳 200 毫米和 300 毫米的样品，可配置接触式四点探头（R54-4PP）或非接触式涡流系统（R54-EC）。
