与您相约CIOE | KLA Instruments先进量测解决方案亮相深圳
与您相约CIOE | KLA Instruments先进量测解决方案亮相深圳
2026年9月，全球光电产业将再次汇聚深圳。
中国国际光电博览会（CIOE中国光博会），作为覆盖光电全产业链的综合型展会，CIOE汇聚了来自全球超30个国家和地区的超4000家的优质参展企业，八大主题展覆盖信息通信、精密光学、摄像头技术及应用、激光及智能制造、红外、紫外、智能传感、新型显示、AR & VR、光电子创新等板块。
KLA Instruments™将借此次机会展出Filmetrics®膜厚仪，方块电阻测量仪，探针式轮廓仪Tencor®P- 系列，Zeta™光学轮廓仪，纳米压痕仪iMicro，等多款重点机型，期待您的莅临。
展会时间：2026年9月9日–11日
展会地点：深圳国际会展中心
展位号：13号馆A02
展会详情：https://www.cioe.cn/
光电行业遇到的量测挑战
随着光电子器件向更高性能、更小尺寸、更复杂结构发展，研发和生产过程对量测技术提出了更高要求：
✅ 薄膜厚度和均匀性控制
✅ 光学器件表面形貌分析
✅ 微纳结构三维测量
✅ 缺陷检测与精准定位
✅薄膜及材料力学性能表征
KLA Instruments能够在以上方面提供完整且可靠的量测与表征解决方案，帮助客户提升研发效率和工艺控制能力。
展品抢先看！
1 Filmetrics® 薄膜厚度测量系统
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实现数秒内精准测量1纳米至3毫米的薄膜厚度
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适用于单层膜、多层膜以及透明、半透明薄膜的表征
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典型应用：光通信器件镀膜，MEMS器件制造，光学薄膜研发
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无论是研发实验室还是生产现场，都能够获得可靠且高效的测量结果
2 Tencor®P- 系列 探针式轮廓仪
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经典的接触式表面轮廓测量解决方案
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优秀的重复性和再现性
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提供2D/3D表面形貌测量，精确测量台阶高度，粗糙度，应力等
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典型应用：光学镀膜台阶高度测量，MEMS结构表征，半导体刻蚀及沉积工艺分析
3 Zeta™- 20 光学轮廓仪
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非接触式测量，获得高分辨率的三维表面信息
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集成式原位刻划功能，对缺陷进行标记与分析
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典型应用：光学元件检测,微纳结构表征, 失效分析
4 Filmetrics® R54 方块电阻仪
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针对导电薄膜和半导体材料，实现方块电阻测量及均匀性Mapping分析，工艺监控，帮助用户快速评价材料的电学性能
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典型应用：透明导电薄膜，半导体材料研究，工艺均匀性评价
5 iMicro 纳米压痕仪
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纳米压痕技术用于表征：硬度，弹性模量， 薄膜力学性能
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典型应用：先进材料研发与可靠性验证，光学镀膜力学性能
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